Геннадий Красников: в России выпущены первые 65-нм микросхемы
19 февраля 2014 года, 00:00Предприятие «НИИМЭ и Микрон» закончило научные и технологические работы по созданию микросхем по технологии 65-нм. Тестовые образцы таких транзисторов и кольцевых генераторов сошли с конвейера в декабре 2013 г., заявил генеральный директор компании Геннадий Красников.
В апреле 2014 года «Микрон» планирует выпустить свои первые изделия по новой технологии - память на 16 Мб.
«С одной стороны это достаточно простые изделия, а с другой почти 100 млн транзисторов на кристалле позволяют хорошо оценить процент выхода годных изделий», - рассказывает Геннадий Красников.
В технологическом процессе 65-нм производства «Микрона» используется ультрафиолетовая фотолитография с длиной волны излучений 193 нм, которая применяется для серийного производства 90-нм чипов.
В конце лета 2014 г. Красников намерен предоставить правила проектирования по технологии 65-нм сторонним дизайн-центрам, чтобы те могли формировать свои заказы для «Микрона».
«В конце года мы будем готовы организовывать серийное производство как собственных разработок, так и разработок других дизайн-центров», - обещает Красников.
Для изготовления пластин с микросхемами по новому для предприятия техпроцессу используется та же линия оборудования, на которой уже производятся чипы по технологии 90 нм. Однако, помимо изменения настроек устройств, была докуплена и новая аппаратура.
«Мы закупили технологическое оборудование, достраиваем новую чистую комнату. Пока мы хотим выйти на мощность 500 пластин в месяц по 65-нм», - говорит генеральный директор «НИИМЭ и Микрон».
Использование уже работающего на линии оборудования является стандартным подходом при минимизации типоразмеров, отмечает руководитель «Микрона».
Сейчас линия выпускает около 3,5 тыс. пластин в месяц по технологии 90-нм. Из заказчиков Красников называет МЦСТ (производит процессор «Эльбрус») и НТЦ «Элвис», специализирующееся на аппаратной обработке видеоизображений (цифровые сигнальные процессоры, микросхемы памяти и т.д.).
Переход на новых технологический процесс позволит сократить энергопотребление чипов и их габариты за счет большего числа элементов на единицу площади. 65-нм микросхемы будут изготавливаться на 200 мм пластинах. Красников называет это отработанной технологией: «В мире есть 8 таких фабрик».
Помимо собственных инвестиций «Микрона» в доработку производственной линии средства поступали в рамках федеральной целевой программы (ФЦП) Минпромторга по развитию российской микроэлектроники. По оценке Красникова, в целом до 3 квартала 2014 г. общий объем вложений, который позволит довести линии до промышленного производства микросхем, составит 3 млрд руб. Из них около 1 млрд руб. потребовала доработка технологий, а 2 млрд руб. - создание инфрастурктуры, т.е. закупка оборудования.
Источник: http://www.cnews.ru